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每天1~2次,每次20~30分钟为灼伤后1~3天。---的时间可酌情延长。立即分开眼睑,用大量清水连续冲洗约15分钟后再滴入眼睛。在局部的眼药中滴2~3滴,可以---疼痛。还需要到。
不含水的---具有较高的介电常数,低粘度和宽的液体范围,因此是一种---的溶剂,本身也会发生自偶电离.无水---是一种强酸性溶剂,其酸度与相当,能使无水---质子的物质很少,在无水---中有许多酸性化合物,而无水---则呈碱性或。

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对健康有害:对皮肤有---的腐蚀作用。早期出现皮肤潮红、干涩。伤口苍白,坏死,然后呈紫黑色或灰色。---灼伤或不当处理,会形成难以愈合的深---,损伤骨膜和骨质。这种产品有---的烧灼感。眼睛接触高浓度产品会导致穿孔。暴露在空气中就会引起,等。长期效应:眼及上呼吸道的------,或,嗅觉减退。还会出现牙齿酸蚀的情况。线异常与工业性氟病少见。
危险:本品不燃,有强腐蚀性、------性,潮州工业级---,可引起人体灼伤。

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皮疹接触:立即脱掉被污染的衣服,用大量清水冲洗至少15分钟,然后---。
眼接触:立即提起眼睑,用大量流动清水或生理盐水冲洗至少15分钟。。
吸气:迅速离开现场,直至空气清新。维持呼吸畅通。在呼吸困难时给予输氧,水处理工业级---价格,不能进行人工呼吸,可导致进行呼吸者本人吸入---氢气体。使用2-4%的碳---钠溶液进行雾化吸入。。
食入:用清水漱口,饮用牛奶或蛋白。。
危害性:本品不燃,可与大部分金属反应生成氢而引起。遇到h型发泡剂立即燃烧。有---的腐蚀性。
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在低浓度下,---也会以极快的速度渗入组织(远快于其他矿物质酸),所以一旦暴露,肯定会侵入组织,必须去医院(相比之下,用水冲洗后发现没有起泡,可以放心)。
二是作用范围大。---进入人体后会进入---循环,影响全身组织,尤其是骨骼。---的毒理主要是攻击钙离子形成不溶性---钙。---反应包括快速降低血钙,导致甚至---骤停。---是一种弱酸,其强度与---相似。市场上销售的---浓度一般为30%~50%。---除锈的主要特点能溶解含硅化合物,对铝、铬等金属氧化物也有较好的溶解能力,常用于浸蚀铸件、不锈钢等工件。

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对于钢、铁工件,低浓度---可用于除锈。---水溶液浓度为70%,可钝化钢铁。
浓度约为10%的---对镁及其合金的腐蚀较弱,因此常用于镁工件的腐蚀。
铅一般不被---腐蚀;镍在浓度超过60%的---水溶液中具有耐强度。
---毒性大,挥发性强。使用时,应防止人体接触---液和---氢气体。腐蚀槽应密封并有---的通风装置,含氟废水处理后才能排放。

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---的35.35%是共沸混合物。毒性致死量为25毫克/公斤。具有腐蚀性,---腐蚀金属、玻璃和含硅物体。的能力在铝和---的纯化中起着重要作用。---也用于蚀刻玻璃,可以雕刻图案,标记刻度和文字的半导体工业用于去除硅表面的氧化物,在炼油厂用于异---和正---化反应的催化剂,广东工业级---价格,在去除不锈钢表面的氧杂质的浸泡过程中也用于---。维持呼吸畅通。在呼吸困难时给予输氧,不能进行人工呼吸,可导致进行呼吸者本人吸入---氢气体。使用2-4%的碳---钠溶液进行雾化吸入。实行隔离,严格---出入。
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---就会使依赖上述两种离子起作用的失去作用。接触---可能不会引起疼痛,而---可能会在---和骨骼中的钙发生反应几个小时后才会发生,可能对人体造成的伤害是不可小看的,其暴露途径包括皮肤及粘膜接触、呼吸道吸入及肠胃道摄入,如果皮肤接触到50%以上较高浓度的---,会立即引起疼痛、泛白、反应,1至2小时内产生水泡,6至24小时内坏死及溃烂,如果接触到10%以下较低浓度者,往往在6小时或更长时间才会出现疼痛等---,因此常被当事人忽视,导致性伤害,无法---地观察液位高度。---时甚至会导致安全事故。因此,在制作测量---液位的磁性翻板液位计的面板时,必须选择亚克力作为磁性翻板液位计显示面板的窗户材料。

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---中的氢离子对人体组织有脱水和腐蚀作用,氟是活跃的非金属元素之一。皮肤接触---后,氟离子不断解离,渗入深层组织,溶解细胞膜,---物中的阴离子会与氢离子分离,由于氟离子半径,很容易穿透人体细胞膜,所以渗透速度极快,可迅速在体内造成损伤,并进入体内,造成全身伤害。
用沙土,工业级---价格,干石灰或苏打灰混合。还可用大量的水冲洗,洗净后放入废水系统。
重大泄漏:筑起围堤或挖坑;用泵移至槽车或收集器中,或送至废物处理场进行处置。

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---质子的物质很少,在无水---中有许多酸性化合物,而无水---则呈碱性或。立即用大量水进---时间冲洗,尽快稀释并冲走---。它是的措施,的关键。总的原则是使用一些可溶性的钙镁盐类制剂,使它们与氟离子结合,形成不溶性的---钙或---镁,采用石灰水浸泡或湿敷,易于推广。
但比---弱。腐蚀性强,---损害牙齿和骨骼。硅化合物腐蚀性强。应该储存在密封的塑料瓶里。
在水中溶解hf(---氢)。用来雕刻玻璃,清洗铸件上的残砂,控制发酵,电抛光,清洗腐蚀半导体硅片(与hno3混酸)。
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